他胸有?成竹，心有?沟壑。

雷客坐在电脑前，操纵鼠标在软件里做精密的计算：“所需的极紫外光必须在真空下进?行?反射，不?能被折射，因?为它非常容易被吸收。真空腔内的反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆……经过十几?次反射，最终剩下的光线不?到2%！”

至于产能，则与光源系统的稳定相?关。

光线利用率不?到2%已经是?优化其他性能所能够得到的最佳数据，决定该性能优化的决定性关键就是?反射镜的精度。

驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个?技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进?的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个?问题。

“精度必须以皮秒来计算。”

当然，反射镜不?对华出口。

“雷客，你调整一下光路结构。”

光刻分辨率有?一道计算公式，照公式调整影响因?数从而提高光刻分辨率，这方面难度不?大，但是?受掩膜设计、抗蚀剂工艺等牵制，必须同时?达到最佳化才能实现理想的光刻分辨率。

盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。

盛明安语速打机关枪似的，斩钉截铁、不?容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有?序，所有?的技术难点都可以被轻松解决。

最浅显易懂的比喻便是?将一面直径不?超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不?能超过一根头发的直径。

他不?必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个?人退怯、不?自信的心。

***

“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果?计算查找表修正光与图案。

以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。

他领着自己小组成员低头忙碌。

收集难度大，转化效率也低。

套刻精度与光刻分辨率相?关，直接受其影响。

他虽不?愿用前世记忆盗窃他人成果?提前制造出国产光刻机，可前世是?他完美解决euv产能低的问题，因?此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。

可盛明安不?清楚。

15年5月份左右，国际半导体发生了?一件大事。

换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。

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当下有?人反驳：“都是?纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了?！”

四代?、第五代?的激光器产生的光源已经达到要求，只需要让光均匀化就行?。

“杜颂，打开你的modelica先进?行?初步的超精密激光器建模仿真。”

以上是?对激光器的要求，相?对整个?光源系统的技术要求不?算高，系统工程程序中最难的步骤是?光的收集。

modelica是?一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。

而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。

asml官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！

围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听?到这数字还是?低得让他们心疼。

全球只有?德国蔡司这家传承三?代?以上的企业才造得出这种反射镜。

难度多大？

盛明安：“不?用担忧反射镜能不?能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”

盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”

杜颂：“已在创建。”

光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三?万度。

光是?雕刻的工具，由激光器产生，涉及三?项技术指标即光刻分辨率、套刻精度和产能。

“数据、模型，不?管失败成功，统统记录下来。”